集成電路中的各部分電子元件和連線精密程度很高，在制造過程中一旦遇到灰塵、固體顆粒、金屬雜質(zhì)、有機(jī)物等物質(zhì)污染，就很容易形成短路或斷路，導(dǎo)致集成電路損壞并失去原本功能。因此，在清洗集成電路時(shí)，就需要用到高純度的超純水作為清洗用水，來規(guī)避水中含有的顆粒雜質(zhì)、金屬離子、有機(jī)物、微生物等成分對(duì)集成電路造成污染的風(fēng)險(xiǎn)。

　　EDI超純水設(shè)備是生產(chǎn)超純水的優(yōu)良產(chǎn)品，主要采用了雙級(jí)反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理工藝。雙級(jí)反滲透系統(tǒng)可以有效去除水中含有的各類金屬離子、細(xì)菌、微生物、有機(jī)物、礦物質(zhì)等元素，還具有良好的抗污染性能，故障率低、運(yùn)行穩(wěn)定。EDI模塊能使系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)帶電荷運(yùn)行，可以加快離子遷移速度，提高設(shè)備的脫鹽率。此外，EDI模塊處理不會(huì)有污染物析出，也不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液，它的進(jìn)水為二級(jí)反滲透產(chǎn)水，水質(zhì)較好，脫鹽后濃水水質(zhì)仍舊優(yōu)于一級(jí)反滲透產(chǎn)水，可回流至一級(jí)反滲透產(chǎn)水箱。

　　EDI超純水設(shè)備還采用了智能化程序，操作靈活，節(jié)約了人力成本，產(chǎn)水質(zhì)量可以進(jìn)行在線監(jiān)測(cè)，運(yùn)行過程中也不會(huì)消耗過多能源。投資EDI超純水設(shè)備為集成電路清洗生產(chǎn)需要的超純水，具有生產(chǎn)質(zhì)量穩(wěn)定、無污染、能耗低等優(yōu)勢(shì)，性價(jià)比高。