芯片作為中國電子的“靈魂”核心技術，是“互聯網+”發展過程中不可或缺的重要要素，在我們日常生活中，網絡通訊、電腦、汽車電子等都可以見到它的身影。

　　集成電路是電子產品中的重要組成部分，其對水中離子含量的要求非常高，幾乎每一道工序都要用超純水清洗，其中離子含量對產品有很大的影響。但目前的技術中，經常存在水質運行不穩、雜質去除不徹底、運行成本高等問題，這也對超純水工藝提出了更高的要求。

　　超純水可分為國家標《電子級水》和美標《電子和半導體超純水質標準》。可為用戶提供質量更優的超純水，解決了以上述純水清洗芯片存在的問題，不僅解決了生產成本高、去除雜質不徹底、生產水質不穩定產生污染的問題，能更好的提升芯片的良品率。

　　工藝流程：

　　原水進水→石英砂過濾器→活性炭過濾器→一級RO→二級RO→反滲透產水箱→紫外線殺菌器→EDI系統→氮封水箱→TOC脫除器→脫氣系統→拋光混床→終端過濾器→用水點

　　工藝優勢：

　　1、超純水設備可以連續、穩定地生產高純度超純水，不需要停止使用樹脂再生。

　　2、采用拋光混床搭載靶向除硼技術，保證出水硼離子能穩定≤5ppt。

　　3、系統集成度高，雙操作系統，系統穩定性更高。

　　4、日常保養維護簡單方便，設備耐用，壽命長。

　　萊特萊德擁有多項超純水專用膜核心技術，專業量身定制水處理方案，可使水質達到18.2MΩ，完全符合電子行業的用水要求。萊特萊德超純水設備的工藝是根據進水水質、出水要求的不同而設計的，針對不同水質特點設計超純水設備方案，才是經濟有效的方案，也是出水水質長期穩定達到要求的保證。